物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition簡(jiǎn)稱PVD) 是用物理的方法(如蒸發(fā)、濺射等)使鍍膜材料氣化，在基體表面沉積成膜的方法。除傳統(tǒng)的真空蒸發(fā)和濺射沉積技術(shù)外，還包括近30 多年來(lái)蓬勃發(fā)展起來(lái)的各種離子束沉積，離子鍍和離子束輔助沉積技術(shù)。其沉積類型包括: 真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍等。物理氣相沉積技術(shù)雖然五花八門(mén)，但都必須實(shí)現(xiàn)氣相沉積三個(gè)環(huán)節(jié)，即鍍料(靶材) 氣化一氣相輸運(yùn)一沉積成膜。 
各種沉積技術(shù)的不同點(diǎn)主要表現(xiàn)為在上述三個(gè)環(huán)節(jié)中能源供給方式不同，同一氣相轉(zhuǎn)變的機(jī)制不同，氣粒子形態(tài)不同，氣相粒子荷能大小不同，氣相粒子在輸運(yùn)過(guò)程中能量補(bǔ)給的方式及粒子形態(tài)轉(zhuǎn)變不同，鍍料粒子與反應(yīng)氣體的反應(yīng)活性不同，以及沉積成膜的基體表面條件不同而已。與化學(xué)氣相沉積相比，主要優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)如下：
I)鍍膜材料廣泛，容易獲得:包括純金屬、合金、化合物，導(dǎo)電或不導(dǎo)電，低熔點(diǎn)或高熔點(diǎn)，液相或固相，塊狀或粉末，都可以使用或經(jīng)加工后使用。
2)鍍料汽化方式:可用高溫蒸發(fā)，也可用低溫濺射。
3)沉積粒子能量可調(diào)節(jié)，反應(yīng)活性高。通過(guò)等離子體或離子束介人，可以獲得所需的沉積粒子能量進(jìn)行鍍膜，提高膜層質(zhì)量。通過(guò)等離子體的非平衡過(guò)程提高反應(yīng)活性。
4)低溫型沉積:沉積粒子的高能量高活性，不需遵循傳統(tǒng)的熱力學(xué)規(guī)律的高溫過(guò)程，就可實(shí)現(xiàn)低溫反應(yīng)合成和在低溫基體上沉積，擴(kuò)大沉積基體適用范圍?？沙练e各類型薄膜:如金屬膜、合金膜、化合物膜等。
5)無(wú)污染，利于環(huán)境保護(hù)。

物理氣相沉積技術(shù)已廣泛用于各行各業(yè)，許多技術(shù)已實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。其鍍膜產(chǎn)品涉及到許多實(shí)用領(lǐng)域。